본문 바로가기
반응형

분류 전체보기113

PLC 통신 프로토콜 비교 CompoBus, DeviceNet, Ethernet/IP, EtherCAT, RS-232C 오늘은 PLC 통신 프로토콜 CompoBus, DeviceNet, Ethernet/IP, EtherCAT, RS-232C, RS-422, RS-485를 비교 해보도록 하자. 0. PLC의 정의 PLC란 Programmable Logic Controller의 약자이다. 프로그래밍 가능 논리 컨트롤러는 제어 알고리즘을 구현하기 위해 사용자가 원하는 대로 하나 이상의 입력 신호에 따라 하나 이상의 출력 신호를 생성하는 유연한 자동화 제어 장치입니다. 소수의 단순한 논리 및 타이밍 기능을 수행할 수 있는 단순한 장치에서 자재 관리 로봇과 같은 복잡한 이동 장비의 동작을 조정할 수 있는 고급 장치까지 복잡성이 다양한 프로그래밍 가능 논리 장치는 일반적으로 응용 분야의 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수 있는 확장 .. 2022. 12. 22.
blog 반도체 8대 공정 - (6) 박막증착 공정 (Deposition) 이번에는 반도체 8대 공정 중 6번째 공정에 속하는 박막 공정(Thin film deposition)을 알아 봅시다. 박막이란 1마이크로미터(μm) 이하의 얇은 막을 말합니다. 이런 박막을 부도체인 웨이퍼 위에 입히게 되면 전기적인 특성을 띄게 됩니다. 1. 증착 반도체 칩은 한 개의 회로만으로 이루어 진 게 아니라 빌딩을 올리듯이 여러 개의 회로를 쌓아 만들게 됩니다. 이런 구조를 형성하기 위해서는 회로 간 구분을 해주고 보호를 해주는 역할을 할 수 있는 매우 얇은 막이 필요한데 이것을 박막(Thin Film) 이라 하며, 웨이퍼 위에 박막의 두께로 분자 또는 원자 단위의 물질을 입혀 전기적 특성을 갖게 하는 공정을 증착(Deposition) 이라 합니다. 2. 증착의 종류 (1)PVD와 CVD 우선 .. 2022. 12. 16.
blog 반도체 8대 공정 - (5) 확산 공정 (Diffusion) 이번에는 4번째 공정 식각(Etching) 공정에 이어 5번째 확산(Diffusion) 공정을 진행해보려 합니다. 확산 공정은 반도체 칩에 특별한 성질을 만들어 내는 공정입니다. 1. 확산(Diffusion) 공정 확산(Diffusion) 공정이란 웨이퍼에 특정 불순물을 주입하여 반도체 소자 형성을 위한 특정 영역을 만드는 것입니다. 식각 과정을 거친 회로 패턴의 특정 부분에 이온 형태의 불순물을 주입하여 전자 소자의 영역을 만들어 주고, Gas간 화학 반응을 통해 형성된 물질을 웨이퍼 표면에 증착함으로써 여러가지 막을 형성하는 공정을 말합니다. 최근에는 확산 공정 보다는 이온 주입(Ion Implantation) 또는 rapid thermal annealing 과정을 통해 진행하게 됩니다. 하지만 그러.. 2022. 12. 16.
blog 반도체 8대 공정 - (4) 식각 공정 (Etching) 지난 시간에는 반도체 8대 공정중 3번째인 포토 공정에 대해서 알아봤는데요, 이번에는 불필요환 회로를 벗겨내는 공정 식각 (Etching) 공정에 대해서알아 봅시다. 1. 식각(Etching)공정이란? 식각(Etching)공정은 밑그림 중 불필요한 부분을 없애는 즉, 회로의 패턴 중 필요한 부분만 남기고 불필요한 부분은 깎아내는 공정을 말합니다. 포토(Photo Lithography)공정에서 부식방지막(Photo Resist)을 형성했다면 식각 공정에서는 액체 또는 기체의 etchant를 사용하여 부식을 진행하여 불필요한 부분을 없애는 작업입니다. (etchant 란 부식을 진행하는 물질을 통칭합니다.) 이러한 에칭 기법은 동판화를 작업하는 미술에서 자주 쓰이는 방법인데요 19세기 화가인 피사로(Cami.. 2022. 12. 16.
반응형